赵伟康，男，1995年，聚变堆材料及部件研究室博士后
教育背景：
2014/9-2018/6 吉林大学，微电子科学与工程，理学学士。
2018/9-2024/6 南京大学，电子科学与技术，工学博士。
2024/7-至今 中国科学院等离子体物理研究所博士后。
研究方向：等离子体增强化学气相沉积碳化硅及其与聚变堆边界等离子体相互作用研究。
发表文章：
[1] W K Zhao, Y Teng, K Tang, et al. A theoretical study on dopants substituted on the H-terminated surface regulating the threshold concentration of nitrogen for accelerating diamond growth[J]. Diamond & Related Materials, 2024: 111317.
[2] W K Zhao, Y Teng, K Tang, et al. An innovative gas inlet design in a microwave plasma chemical vapor deposition chamber for high-quality, high-speed, and high-efficiency diamond growth[J]. Journal of Physics D: Applied Physics, 2023, 56 375104.
[3] W K Zhao, Y Teng, K Tang, et al. Significant suppression of residual nitrogen incorporation in diamond film with a novel susceptor geometry employed in MPCVD[J]. Chinese Physics B, 2022, 31(11): 118102.